8月14日晚，山西航空摄影师@nDS寒风 在外交媒体爆料：中国半导体行业一天之内实现"双杀"！

先是屹唐半导体向美国运用 原料 公司提议 天价索赔，揪出两名窃密内鬼；紧接着杭州传出重磅消息，国产电子束光刻机精度突破 至0.6纳米。

这两记重拳直接打在特朗普最疼的科技战软肋上——要知道三天前他还在演讲中吹嘘 "中国永远造不出高端光刻机"。

这场跨国商业谍战堪称实际版《埋伏》。新加坡《团结早报》曝光的起诉书表现，美国运用 原料 通过高薪挖走屹唐半导体两名焦点工程师，不仅带走整套28纳米蚀刻技能计划 ，更离谱的是直接在美国申请了专利。

更令人愤慨的是，涉事工程师王某、李某的去职审批表上赫然写着"无保密协定 轇轕 "。

现在北京知识产权法院已受理此案，9999万元索赔金额被网友戏称为"差一元就破亿的羞辱性报价"。

苏州工业园区某芯片厂技能总监老张边革消息边拍桌："这哪是商业竞争？分明是科技抢劫 ！我们厂去年就被美国制裁断供，现在终于明白为啥总被卡脖子。"

正当舆论沸腾之际，杭州传出的消息直接点燃全网。中科院杭州分院14日下午官宣的电子束光刻机，虽暂未实现ASML的范围 化临盆 水平，但0.6纳米精度足够制作 3纳米芯片。

深圳华强北的芯片批发商小林第一时光 发了朋友圈："兄弟们囤货注意了！ASML的DUV光刻机报价上周刚降30%，现在知道缘故原由了吧？"

值得注意的是，研发团队负责人担当采访时走漏 ，该项目三年内得到27项专利，其中 电子束掌握 系统 完全自主，连螺丝钉都是国产。

按现有进度，中国光刻机产业链正在复刻高铁模式——从零件进口 到整机出口只用了8年。

有人贴出ASML财报辩驳 ："他们每年研发投入还是中国十家头部企业的总和"。不过更多网友关注那两个泄密工程师的了局，热评第一写道："建议在张江高科技园区立块羞耻柱，让全部科技从业者每天上班都能瞥见"。

这场科技范畴，下一个爆点会是华为的5纳米芯片吗？