2023年，面对美国对华变本加厉的光刻机制裁，荷兰阿斯麦尔光刻机巨擘 温宁克在接受电视采访时以饱含愤怒的口气称，孤立中国事 没有盼望的，由于14亿中国人异常 聪明，他们会想出我们想不出的方法 。

如今这句话被验证了。

一家新公司——新凯来此次携EPI“峨眉山”、ETCH“武夷山”、CVD“长白山”等15款以中国山脉定名的产品高调登场，不但浮现 了对第三代半导体、先辈制程等范畴的深度布局，更是国产冲破 的猛烈 旗帜暗号 。

对于这家新公司的亮相，项立刚表现：“上海的这一次芯片展会，新凯来虽说亮相了，但没有光刻机，而光刻机是拿来用的，并不是用来展览的。”“光刻机很快就会被忘记，光刻机这颗明珠很快要酿成玻璃珠子了。”

事实上，重新凯来到国内全固态激光技术的DUV光源体系的冲破 ，开释出国产装备技术突围的猛烈 旗帜暗号 。

近期，中国科学院团队已成功研发出基于全固态激光技术的深紫外光（DUV）光源体系，通俗点来说就是 不用外国技术的深紫外光刻机光源。

这玩意一出来，不光本身能造3纳米芯片，还把美国设的技术封锁给炸开了大口子 。

光刻机是造芯片的症结 装备，全世界 只有荷兰ASML那几家公司能造高端货。光刻机的三大核心技术，就是光源体系、光学体系和双工作台，尤其是光源体系直接决定了光刻机的分辨率和精度。

无论是ASML、佳能、尼康，他们用的是氟化氩气体引发激光的老方法 ，经由过程 氩、氟气体混淆物在高压电场下生成 不稳定分子，开释出193nm波长的光子，然后以高能量的短脉冲形式发射，输出功率100-120W，频率8k-9kHz，再经由过程 光学体系调整，用于光刻装备。

也就是说，传统的光刻机路径既要稀有气体又要细密零件，而如今中科院搞出来的全固态激光路子，直接走另一条路——中科院的固态DUV激光技术完整 基于固态计划，由自制的Yb:YAG晶体放大器生成 1030nm的激光，再经由过程 两条不同的光学路径举办 波长转换。

一路采用四次谐波转换(FHG)，将1030nm激光转换为258nm， 另一路径采用光学参数放大(OPA)，将1030nm激光转换为1553nm。

之后，转换后的两路激光经由过程 串级硼酸锂(LBO)晶体混淆，生成 193nm波长的激光光束。

简言之，科学家用国产的Yb:YAG晶体当"电池"，先整出底子激光，再分两路走。一路把波长缩到258纳米，另一路伸长到1553纳米，末了在硼酸锂晶体里一碰，稳安妥 当地搞出了193纳米的深紫外光。基于此，乃至可用于3nm的工艺节点。

这种计划可以大幅低沉光刻体系的庞杂 度、体积，减少对于稀有气体的依赖，并大大低沉能耗。相关技术已经在国际光电工程学会(SPIE)的官网上颁布 。

传统光刻技术是欧美日三十年的积累，专利墙异常 深厚 。

但中国这套基于固态计划的光源体系，不管是布局、材料都发生 了巨大 的变化，相当于重新计划一套体系。整个过程不用稀有气体，不用求着外国买零件，而且把成本与维护费极大低沉，直接倾轧了ASML的技术专利，就像新能源车对燃油车的颠覆。

这次冲破 的重要意义在于，其一是光刻机自主 化大大提拔，而且绕开了欧美专利墙的封锁，从底层物理道理 重建 技术体系——美国拦阻咱们买Yb:YAG晶体，我们本身培养；不准用进口 硼酸锂？咱们福建产能世界 第一。经由过程 新技术转而创立 本身的专利壁垒，雷同于新能源车三电技术专利绕开燃油车三大件，直接走出了本身的路。进而由此动员了国产供给 链。

就像手机动员手机产业链大规模在世界 落地，新能源汽车动员汽车全产业链发展一样，这项国产光刻机技术也将因此动员国内上卑鄙产业链全方位发展。比如福建那里产的硼酸锂晶体，原来占环球八成市场但只能当原材料卖，如今直接升级 成光刻机的"心脏部件"。

其次是，成本大大低沉，固然如今中科院的原型机功率只有ASML装备的千分之七，固态激光发展空间异常 大。只要把晶体散热做好，激光器服从提上来，追上现有水平只是时光 标题。再加上不用成天 奉养金贵的气体循环体系，维护成本天然就低。

假如真能把这技术商业化，今后 咱们的中端芯片临盆 成本能直降三成，把台积电三星都卷哭。

再一个是把光刻机的体积低沉了，也进一步低沉了运输成本。依照 中科院信息，采用固态光源技术，光刻布局更简单，整体体积可以缩小30%以上。

在已往，光刻机由于 制作 细密，布局庞大，输送 异常 不方便，ASML临盆 的EUV光刻机，光镜头就有1吨多重。一台光刻机，大巨细小零部件数量就达到 10万多个，总重量180吨摆布 ，此中，2公里长度以上的软管，就须要用到40个集装箱来运输。1台阿斯麦光刻机，我们要想运回全部的所需零部件和帮助 装备，至少须要出动3架波音747飞机与其他车辆、船只，运输难度之高显而易见。

这此中的运输成本之高可想而知。而如今，中科院可以减少整整三分之一的体积，不但意味着它能耗减少，运输成本也跟着低沉。

封锁加速中国发展，再一次被验证了

如今最慌的应该是一直搞技术封锁的美国。他们原来指望着靠卡光刻机脖子来拖慢中国发展，谁知道咱们直接跳过被封杀的路线另起炉灶。

连外媒都承认，这可能是芯片战役的重要转折点，中国距离实现半导体自主 就差临门一脚了。

越制裁，越出成果，美国限制什么，中国就能搞出什么？封锁加速中国发展，再一次被验证了。

重新凯来从幕后走到前台的这一动作来看，参加中国国际半导体展来看，国产光刻机的产品线已经靠近完善了，其产品线已经包括 PVD、CVD、ALD、RTP、EPI、蚀刻机与检测装备、测量 产品和检测产品。按营收计算，新凯来乃至比中微还要大。

那些老说中国人只会盗窟的脸，这次怕是都被打肿了。“看看五代机时代没有对手 的歼20和歼35，六代机时代唯二天空翱翔的歼36和歼50，假如还有人迷信西方科技，那只能说他对当下的中国太不了解了！”

我们想造EUV光刻机，本身有内需市场的支持 ，再加上我们的研发本领以及这些年的技术与专利积累，达到 360万项，中国一直都在扎扎实实推动 ，把核心技术一件件解决，做精做细，新凯来的使命就是为国产半导体制作 高端相关一系列装备，仅用3年时光 ，就完成研发13类包括光学监测、光学量测、PX（原子力显微镜-X射线-、功率监测（KGD-FT)等等在内的多模高端装备，部门正在连续交付，部门正在攻坚做技术迭代，很多项是战略 保密级别，量变发生 质变，产业规模性的会合转折和发作点也只是时光 标题。

加上这次国产新光刻机技术具有布局简单、占地面积小、能效高，制作 成本低等上风。越来越有点像DeepSeek对Open AI的打击。

一台EUV光刻机，包罗了反射镜、光源和工件台三大组件，光源搞定了还得跟对焦体系、移动平台这些配合 。除了这些，还有光刻机的物镜，无论是在制作 还是安装物镜，都必须 保证超精度。

物镜的安装和调整涉及到波像差测量 、位移测量 、面形测量 等多个环节，这些都须要高精度的干涉仪，ASML干涉仪是德国蔡司与美国赛克供给 ，所以 这个安装光刻机物镜的干涉仪，也得重新自主 研发。加上几十几万个小零部件，很多都是环球顶尖的技术，咱们在细密死板 这些年的积累固然进步快，它不是短时光 就能一蹴而就 ，可能还得再练几年内功，只不过 已经是时光 标题了。它给环球半导体产业带来的打击与洗牌, 也可能在背面。

“没有人能遮住满天的星光”，如今的情况，意味着荷兰ASML原CEO温宁克的话被验证了，荷兰也得重新揣摩 自家光刻机将来的竞争力了。

作者：王新喜 TMT资深评论人 本文未经许可推辞转载