随着美国近年来不绝加大年夜 对中国的高科技封锁，光刻机这个原本比力小众的、应用于芯片制造的半导体设备也日益被大年夜 众所熟知。这是因为，中国现在还造不出7纳米及以下高端芯片的核心原因 之一，就在于无法从荷兰公司阿斯麦（ASML）进口制造高端芯片的EUV（极紫外）光刻机，只能靠自立 研发，是以 ，国产光刻机的研发进展有任何风吹草动都轻易激发 高度存眷 。

10月15日至17日，湾区半导体产业生 态博览会 （下称“湾芯展”）在深圳举行。本届湾芯展，最受存眷 的公司就是深圳市新凯来技巧 有限公司（下称“新凯来”）。

新凯来成立于2021年，由深圳市国资委全资控股。这家年轻 的始创 公司之所以格外受存眷 ，主要因为，不绝有市场传言称新凯来在研发用于制造7纳米及以下高端芯片的光刻机。

新凯来不仅没有展出光刻机相关信息，事实上，停止本文发稿，新凯来从未在官网、消息宣布 会、科技展会等各类 公开渠道上明确认可过有该项营业 。

国内公开认可肩负光刻机研制的公司是上海微电子设备 (团体)股份有限公司(下称“上海微电子”)，其用于制造90纳米芯片的干式DUV（深紫外）光刻机已经实现量产。据证券时报报道，上海微电子28纳米浸没式DUV光刻机也进入产品 验证阶段，但EUV（极紫外）光刻机仍处于预研阶段（2025年度中国国际工业博览会 ，上海微电子初次公开EUV光刻机参数图），需突破 光源、光学系统等核心技巧 。

表：光刻机制造关键核心范畴国产化现状  来源：华金证券

固然不涉及光刻机，新凯来正向半导体设备多项“卡脖子”技巧 发起 挑战。本届湾芯展上，新凯来展现 了刻蚀、薄膜沉积、量检测等6大年夜 类产品 ，子公司启云方（武汉启云方科技有限公司）和万里眼（深圳万里眼技巧 有限公司）别离 宣布 了EDA计划软件和超高速示波器。

新凯来每个大年夜 产品 系列均以中国名山定名，暗含建立 中国半导体设备岑岭 之意。

1．外延沉积（EPI）设备（峨眉山系列）

EPI设备的感化 是，通过化学气相沉积（CVD）技巧 ，在晶圆外貌成长 一层原子级细密的单晶半导体质料（如硅、锗硅、碳化硅等），直接决定芯片的性能 与靠得住 性。

EPI设备是半导系统 体例 造中最核心的“卡脖子”工程之一，其技巧 壁垒和市场操纵 程度可与光刻机相提并论。环球前道EPI设备市场长期被美国应用质料公司（AMAT）和日本东京电子（TEL）操纵 ，合计占据高出90%的份额。

国内EPI设备研发起 步较晚，现在8英寸EPI设备性能 接近国际水平，主要代表厂商是北方华创，但12英寸EPI设备仍需依靠进口。

按照 新凯来颁布 的情况，新凯来EPI设备在8英寸硅基外延工艺中，膜厚均匀 性到达±0.5%，与应用质料同类设备处于统一 技巧 水平。

2．原子层沉积（ALD）设备（阿里山系列）

ALD设备比如一个纳米级的粉刷匠，专门为芯片制造打造原子级超薄、超均匀 的薄膜，属于前道工艺的“薄膜沉积”核心环节，是先辈制程（7纳米及以下）实现细密结构的关键设备。

现在环球ALD设备市场由荷兰先晶半导体（ASM）和日本东京电子主导，两者合计市场份额高出60%。

国内ALD设备研发始于2015年后，现在成熟制程（28纳米及以上）设备已实现量产突破 ，但先辈制程设备依靠进口，主要代表厂商包罗新凯来、北方华创(002371.SZ)和拓荆科技（688072.SH）。

新凯来薄膜沉积设备“阿里山”系列有三款产品 。其中，阿里山1号是12英寸高保形性介质薄膜原子层沉积设备，搭配五边形平台和Twin腔领先架构，笼罩 先辈逻辑/存储前中后段介质薄膜应用场景，满足图形化，超薄薄膜，超高深宽比gap fill需求，支持 向将来先辈节点演进。阿里山2号是12英寸介质刻蚀拦截层薄膜沉积设备，3号则是12英寸高深宽比金属栅极原子层沉积设备，均支持 向先辈节点演进。

3. 物理气相沉积（PVD）设备（普陀山系列）

PVD设备的感化 是，通过蒸发、溅射等物理进程 将金属或介质质料沉积到晶圆外貌，形成导电互连层、栅电极等关键结构，其薄膜的电阻率、均匀 性和附着力 直接决定芯片的电学性能 与靠得住 性。

PVD设备是半导体薄膜沉积范畴的核心设备 ，技巧 壁垒集中于高功率溅射源计划与大年夜 面积均匀 沉积控制。环球市场长期被美国应用质料操纵 ，其市占率高达85%，尤其在12英寸先辈制程的铜互连沉积范畴险些处于独有 地位。

国内PVD设备研发起 步较晚，8英寸成熟制程设备已实现批量供货，但12英寸先辈制程的铜互连PVD设备仍主要依靠进口。

国内涉足PVD设备的厂商包罗北方华创、拓荆科技和新凯来。其中，北方华创是国内PVD设备的龙头企业；拓荆科技主要专注于CVD（化学气相沉积）和ALD（原子层沉积），但其在PVD范畴也有布局；公开信息显示，新凯来推出了普陀山1号至3号三款PVD设备，别离 针对金属平面膜、中道干戈 层及后道互连。例如，普陀山3号采用多重电磁调控与高离化自电离等离子体技巧 ，实现高质量金属填孔，其平台架构灵活应对多元应用场景，一代计划支持 多代制程。

4. 刻蚀设备（武夷山系列）

刻蚀设备使用等离子体或化学试剂在晶圆外貌进行选择性腐蚀 ，将光刻界说的图形精准转移到薄膜或衬底上，是半导系统 体例 造中“图形化”的核心工具。简言之，刻蚀设备就像一把超等精致的“雕花刀”，在晶圆上刻出纳米级的电路图案。

刻蚀设备是半导体设备中市场规模第二大年夜 的品类，技巧 壁垒体现在高深宽比刻蚀与原子层刻蚀（ALE）技巧 上。环球市场长期被美国泛林半导体（Lam Research）、应用质料（AMAT）和日本东京电子（TEL）操纵 ，三者合计占据超90%的份额。

国内刻蚀设备研发进展较快，成熟制程（28纳米及以上）的介质刻蚀、金属刻蚀设备已实现国产化，主要由中微公司、北方华创供应 ；在7纳米及以下先辈制程范畴，中微公司取得关键突破 ，公开表现其临盆 的高深宽比刻蚀设备已成功应用于国表里领先的芯片制造商的5纳米及更先辈的芯片临盆 线中。

新凯来刻蚀产品 ETCH（武夷山）系列，包罗武夷山1号、3号、5号共3款设备。其中武夷山1号MAS为电容耦合等离子体(CCP) 干法刻蚀设备，实现了射频全链路自立 可控，多频三级同步脉冲满足三维庞杂 形貌 调控需求；武夷山5号为自由基干法刻蚀设备，接纳立异 匀气方案计划，大年夜 幅提拔刻蚀选择比。

5. 薄膜沉积CVD设备（长白山系列）

薄膜沉积设备通过CVD或PVD等工艺，在晶圆外貌成长 或笼罩 特定质料的薄膜层，用于构建芯片的导电层、绝缘层或保护层。简言之，薄膜沉积设备就像一台“纳米级喷涂机”，为晶圆均匀 笼罩 功效 各别 的薄膜质料，为后续电路图形化奠定基础。

薄膜沉积设备是半导体设备中市场规模最大年夜 的品类之一，技巧 壁垒集中于薄膜均匀 性、缺陷控制和先辈质料适配能力。环球市场长期被美国应用质料、泛林半导体和日本东京电子主导，三者合计占据高出80%的份额。

国内CVD设备研发近年来进展明显，在28纳米及以上成熟制程的介质薄膜、多晶硅沉积范畴已实现国产化，主要由北方华创、拓荆科技供应 ；在7纳米及以下先辈制程范畴的CVD设备仍旧受制于人。

新凯来CVD产品 包罗长白山1号和长白山3号。按照 新凯来的公开信息，长白山1号具备单腔4-Station领先架构，长白山3号周全 笼罩 逻辑和存储金属化学气相沉积应用场景，具备立异 架构和领先性能 ，多种工艺高度集成，支持 向将来先辈节点演进。

6. 量检测设备（岳麓山系列）

量检测设备的感化 是，通过光学、X射线等技巧 对晶圆制造全流程进行缺陷检测与参数测量，包罗薄膜厚度、线宽、缺陷尺寸等，是保障芯片良率的“眼睛”，其检测精度与屈服 直接决定量产产能与资本。

量检测设备是半导体设备中国产化率最低的品类之一，技巧 壁垒集中于纳米级缺陷辨认与高速信号处理。环球市场长期被美国科磊（KLA）、应用质料和日本东京电子操纵 ，三者合计占据超90%的份额。西证券研报指出，国内半导体检测和量测设备企业起步较晚，主要厂商的国内市场份额由2019年的0.61%提拔至2023年的4.34%。

新凯来量测检测设备包罗岳麓山系列、丹霞山系列、蓬莱山系列、莫干山系列、天门山系列、沂蒙山系列和赤壁山系列和功率检测的RATE系列产品 。

据界面消息报道，新凯来量测检测设备实际分两类，一类是技巧 难度较高的光学量检测产品 ，包罗明场缺陷检测BFI、暗场缺陷检测DFI、外貌缺陷检测PC等。公司方面表现，这类产品 基本 完成客户侧验证，2025年进入量产状态。

另一类是国内此前空白但产线必需的PX（物理和X射线）及功率检测产品 ，包罗原子力显微镜量测AFM、X射线类量测XPS、CP(Chip Probing)测试机等。其中，PX量测产品 已进入量产交付，功率检测产品 也进入了规模应用。

据《南边日报》报道，新凯来量检测设备 产品 线总裁郦舟剑担当采访时曾表现，新凯来量检测设备 在核心零部件上均实现了国产化，每一个突破 在2021年之前曾被视作难以逾越 的高山。

综合来看，新凯来的主要产品 线集中在半导系统 体例 造中最庞杂 、技巧 壁垒最高的前道（Front-end）工艺。

本届湾芯展上，新凯来子公司万里眼自立 研发的新一代超高速实时示波器也很受业界存眷 。

据公开消息，万里眼首席实验官刘桑表现该公司之所以将眼力 瞄向示波器范畴，一是因为从瓦森纳协议 到美国的出口管制，西方国家克制向中国出口60GHz以上的实时示波器；二是美国几年时间里将1500多家国内大年夜 学科研机构以及企业纳入实体管制清单，导致其无法使用通例使用美国仪器，使得高端的电子测量仪器成为中国电子产业向前成长 的关键卡点。

万里眼公司官方信息称，该公司新一代超高速实时示波器带宽突破 90GHz，位列环球第二，将国产示波器性能 提拔到原有水平的500%，实现多带产品 的超过，可应用于半导体、6G通讯、光通讯、智能驾驶等范畴。

刘桑还走漏 ，其系列产品 可做到稳定批量向客户供应 服务，华为、上海交大年夜 等多家机构是其客户。 

综上所述，新凯来及其子公司通过聚焦于PVD、刻蚀、薄膜沉积等前道核心工艺设备，以及高端量检测仪器，正力图在多个层面系统性地办理半导体设备产业的“卡脖子”问题。